光刻胶研究框架2020年全球半导体光刻胶市场规模约 18 亿美元红作为国内光刻胶领域的先驱智能机器和先进材料领域世界领先企业

光刻胶又被称为光致抗蚀剂，就是指根据紫外线、离子束、电子束、 X 放射线等直射或辐射源，其溶解性产生变化的耐腐蚀剂刻塑料薄膜原材料。光刻胶现阶段被普遍用以光学信息技术产业的细微图型路线生产加工制做，约占 IC 生产制造原材料固定成本的 4%，是关键的半导体原材料。

原文章标题：《光刻胶研究框架》

创作者：陈杭

光刻胶，半导体根基

光刻胶是半导体产业链中最重要的原材料之一，一般由由光感应环氧树脂（汇聚剂）、增感剂（光稳定剂）、有机溶剂与改性剂组成。

光刻技术约占全部芯片制造成本费的 35%，用时占全部集成ic加工工艺的 40-50%，是半导体生产制造中最关键的加工工艺。

▲半导体原材料：半导体产业链的根基

一般的光刻技术要历经单晶硅片表层清理风干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、指向曝出、后烘、显影液、硬烘、离子注入、检验等工艺流程。

▲正胶的光刻技术全过程

光刻胶历经几十年持续的发展趋势和发展，主要用途不断扩大，衍化出十分多的类型，依据主要用途，光刻胶可分成半导体光刻胶、 平板显示器光刻胶和 PCB 光刻胶，其技术要求先后减少。

相对应地，PCB 光刻胶是现阶段国产替代进展更快的，LCD 光刻胶取代进展相对性较快，半导体光刻胶现阶段国内技术性较海外优秀技术性差别较大。

▲光刻胶按中下游运用归类

依据化学变化原理，光刻胶可分成负性光刻胶和正性光刻胶两大类。二者在 PCB、控制面板、半导体上都有广泛运用，可是 ArF 光刻胶和 EUV 光刻胶基本上全是正胶。

因为负性光刻胶显影液的时候容易形变和澎涨，屏幕分辨率一般 只有做到 2 μm，因而正性光刻胶的运用更加普及化。

▲正性光刻胶与负性光刻胶主要参数

▲正性光刻胶与负性光刻胶光刻技术比照

半导体光刻胶依据相匹配的光波长可分成紫外线光刻胶（300-450nm）、深紫外线光刻胶（160-280nm）、极紫外线光刻胶（EUV，13.5nm）、离子束光刻胶、电子束光刻胶、 X 放射线光刻胶等。另外伴随着 DUV 灯源被普遍选用，有机化学变大（CAR）技术性慢慢变成 应用领域的流行。

现阶段，关键的光刻胶由 g、 i、 KrF、 ArF 四类构成。这 4 种光刻胶，因为要求的不一样，光刻胶的各构成部分以及占比也不尽相同。

▲四大关键半导体光刻胶比照

▲ 四大关键半导体光刻胶占有率

现阶段，在表明控制面板领域，光刻胶关键运用于 TFT-LCD 列阵生产制造，滤色片生产制造和触摸显示屏生产制造三个主要用途。在其中，TFT-LCD 列阵和滤色片全是 LCD 控制面板构造的构成部分，触摸显示屏则是以触碰操纵为目地的作用模块。

控制面板表明领域关键应用的光刻胶有彩色及灰黑色光刻胶、 LCD 触摸显示屏用光刻胶、 TFT-LCD 正性光刻胶等。在光刻技术和蚀刻加工生产制造阶段中，光刻胶涂敷于结晶塑料薄膜表层，经曝出、显影液和蚀刻加工等工艺流程将光罩（掩膜版）上的图型迁移到塑料薄膜上，产生与掩膜版相匹配的图形。

彩色光刻胶和灰黑色为光刻胶是制取彩色滤色片的关键原材料，占彩色滤色片成本费的 27% 上下。彩色滤色片是 TFT-LCD 完成颜色表明的重要元器件，占控制面板成本费的 14%-16%。因为 TFT 整列的构造非常简单且规范化，及其 TFT 列阵针对规格的规定比优秀集成电路芯片低许多。因而一般 g 线光刻胶就可以符合要求。

在触摸屏运用中，光刻技术用以 ITO sensor 的生产制造。ITO sensor 是根据将 ITO 原材料依照特殊的图案设计，涂在夹层玻璃或是 Film 上，随后贴在一层厚的维护夹层玻璃上获得的。

▲全球控制面板光刻胶占有率

PCB 光刻胶关键应用的有湿膜光刻胶、湿膜光刻胶、光感应印刷油墨等。

PCB 用湿膜与湿膜光刻胶各有特色。大体上而言，湿膜具备屏幕分辨率高，成本费便宜，显影液与离子注入速率迅速等优点。因而，在 PCB 运用中，湿膜光刻胶正慢慢完成对湿膜光刻胶的取代。

▲PCB 三大印刷油墨差别

光刻胶自 1959 年被创造发明至今就变成 半导体工业生产最关键的加工工艺原材料之一。接着光刻胶被改善应用到pcb电路板的生产制造加工工艺，变成 PCB 生产制造的关键原材料。

二十世纪 90 时代，光刻胶又被应用到平板显示器的生产加工制做，对平板显示器控制面板的大容量化、高精细化管理、彩色化具有了关键的促进功效。

▲光刻胶的历史时间变化

半导体光刻胶伴随着销售市场对半导体商品微型化、作用多元化的规定，而持续根据减少曝出光波长提升極限屏幕分辨率，进而做到集成电路芯片更密度高的的集积。伴随着 IC 处理速度的提升，全球集成电路芯片的制造技术水平早就由μm级进到纳米。

为融入集成电路芯片图形界限持续变小的规定，光刻胶的光波长由紫外线宽谱向 g 线 (436nm)→i 线 (365nm)→KrF (248nm)→ArF (193nm)→F2 (157nm)→EUV (13.5nm) 的方位迁移，并根据屏幕分辨率提高技术性持续提高光刻胶的屏幕分辨率水准。

▲IC 处理速度与光刻工艺发展史

据 SEMI 的数据统计表明，2016-2019 年，全球半导体光刻胶的市场容量从 15 亿美金提高至 2019 年的 18 亿美金，年复合增速达 6.3%，由此预测分析，2020 年，全球半导体光刻胶市场容量约为 19 亿美金。

▲2016-2020 全球半导体光刻胶市场容量

▲ 2018-2021 全球半导体销售市场销售总额

全球控制面板全产业链生产能力迁移经历了 3 个阶段。2000 年以前是由日本和韩核心的全球 TFT-LCD 产业发展规划，但同阶段全球销售量第一是三星；2000-2010 年，日本向中国台湾地区专利运营，以京东方为意味着的公司根据企业并购逐渐迅速发展趋势液晶显示屏；2010 年之后，日本好几家生产商撤出 LCD 产业链，韩则将重心点迁移至 OLED，我国的 LCD 控制面板生产能力占有全球第一。

近些年伴随着好几条 G8.5/G8.6 及其 G10.5 代线的依次批量生产，我国 LCD 生产能力维持上位提高，2019 年 LCD 总生产能力做到 1.1 万亿平方米，位列全球第一。

▲ 2020 年全球 LCD 生产能力地区构造

▲ 全球 LCD 光刻胶市场容量（亿人民币）

光刻胶全球产业链布局

光刻胶归属于高技术要求原材料，必须与光刻技术相互配合应用，生产制造繁杂，纯净度规定高，必须长期性技术性累积。光刻胶产业链是典型性的技术性和资产双密集式产业链，在其中，半导体光刻胶的生产制造难度系数较大。光刻胶销售市场关键由日本和英国垄断性，在其中日本占有率 72%，而内地公司市场占有率不够 13%。

2019 年，全球光刻胶总体销售市场约 82 亿美金。依据 Reportlinker 组织 的预测分析数据信息，2019-2026 年全球光刻胶消耗量的复合型增长率为 6.3%，至 2026 年，全球光刻胶市场容量将提升 120 亿美金。

据 SEMI 的数据信息，2019 年全球半导体光刻胶的市场容量为 18 亿美金，2016-2019 年复合增速达 6.3%。由此预测分析，2020 年全球半导体光刻胶市场容量约 19 亿美金。

▲全球光刻胶市场容量

▲ 2018 光刻胶全球遍布布局

全球半导体光刻胶行业关键被 JSR、 TOK、罗门哈斯、信越化学、博仕原材料等头顶部生产商垄断性，尤其是高档 EUV 和 ArF 光刻胶基本上彻底被英国和日本操纵。国内光刻胶公司不论是技术实力或是市场占有率均远落伍全球优秀生产商。

▲光刻胶全球市场竞争布局

东京应化：全球光刻胶水龙头。东京应化创立于 1936 年，在 1968 年和 1972 年各自开发设计出负性光刻胶和正性光刻胶后，一直以变成 光刻胶水龙头经销商为总体目标，走在半导体微生产加工技术性的前端。2006 年，企业就首先项目投资产品研发 ArF 浸入光刻胶所需技术性，2019 年企业一样是推动 10nm 下列制造 EUV 光刻胶的公司之一。

▲东京应化发展史

东京应化的原材料和机器设备被广泛运用于半导体生产制造、半导体封裝 & MEMS 生产制造、 三维 封裝行业、控制面板生产制造行业，且具备非常核心竞争力。企业光刻胶关键遮盖半导体前面、后端开发生产制造和优秀封裝。

除此之外，企业还积极主动合理布局结构型原材料、表层改性工程塑料、微解决塑料薄膜、毫米波通信净化塔等高效益原材料，发展新业务流程行业。

JSR：光刻胶大佬。JSR 创立于 1957 年，自 1969 年至今，JSR 已经将其石油化工业务流程从丁苯橡胶拓展到包含保湿乳液、塑胶和别的原材料，并运用特有高聚物技术性扩张了半导体、触控显示屏和光学材料行业的业务流程经营。依据企业年度报告，JSR 在 FY2019 完成营业收入 4720 亿日元，运营盈利 329 亿日元。

JSR 于 1979 年进到光刻胶行业。现阶段，企业光刻胶业务流程归属于数据解决方法单位，关键用以半导体和表明领域。

▲JSR 发展史

信越化学：整体实力强悍的综合型化工厂。信越化学是日本较大的化工厂。公司成立于 1926 年，其前身为信越氮化肥株式。上世纪 60 时代，企业是最开始向国外扩大的日本化工厂。1998 年，企业完成了光刻胶商品的商用化。

信越化学在 PVC、半导体硅等好几个行业处在国际性水龙头影响力。在其中 PVC、硅晶圆、生成石英石、优秀光掩免费模板、生成引诱剂层面的全球市场占有率第一；在光刻胶和羧甲基纤维素层面全球第二；在有机硅树脂层面全球第四。公司目标变成 全部类目的全球管理者。

纵览光刻胶的历史时间，英国柯达相机的 KTFR 光刻胶是光刻工艺的盘古开天辟地之作。直至 1980s，IBM 仍然在 KrF 光刻胶技术性层面名列前茅，日本公司在 90 时代才完成 KrF 光刻胶的批量生产，落伍 IBM 最少十年。

可是，现如今的光刻胶公司主要是日系生产商。这表明，光刻胶技术性务必要与光刻技术和制造加工工艺相符合才可以打开成功之道。大家觉得，日本光刻胶公司的取得成功离不了半导体产业链的天和、地利人和、人与。

▲光刻胶历史时间变化

▲intel制造发展历程

日本尽管赢在了 KrF 光刻胶的“天和”，可是那时候 IBM 并沒有在技术性特性上落伍。基本确立日本光刻胶全球关键影响力，大量是借助“地利人和”。

进到 21 新世纪后，全球半导体产业链早已从日本迁移到中国台湾地区和韩。另外，nikon也被 ASML 超过，失去全球光刻技术的水龙头影响力。日本光刻胶产业链在连续失去光刻技术和晶圆制造两大推动力以后，却仍然矗立全球之巅，其直接原因取决于“人与”。

光刻胶的“人与”关键反映在日本光刻胶公司数十年的技术实力、申请专利、产业链工作经验。在现阶段 IDM 方式向 Fabless-Foundry 方式变化和半导体全产业链全球职责分工的时代特征下，日本挑选了致力于光刻胶等半导体原材料产业链，运用发明专利构建起非常高的行业壁垒，产生垄断竞争市场布局。

▲日本四大光刻胶公司申请专利数

大佬垄断性下的国产替代机遇

近些年，伴随着半导体领域的迅猛发展，半导体原材料要求充沛，光刻胶市场的需求维持了优良的提高趋势。依据国家工信部及科学研究组织 Cision 的汇报表明，十三五期间，中国光刻胶销售市场完成年平均 14.5% 提高，五年均值年复合增长率为 12.12%，2020 年全国各地光刻胶总体的市场容量做到 176 亿人民币，在其中半导体光刻胶市场容量做到 24.8 亿人民币。

ArF 光刻胶变成 集成电路芯片生产制造行业需要量较大的光刻胶商品，伴随着将来集成电路芯片产业链的进一步发展趋势，ArF 光刻胶遭遇宽阔的销售市场机会。依据英国半导体行业协会 SIA 的统计分析，2018 年高档 ArF 干试和浸入式光刻胶占有了 42% 的市场占有率，KrF 和 g 线 /i 线光刻胶各自占有 22% 和 24% 的市场占有率。

依据博仕经济发展预测分析，将来 ArF、 KrF 光刻胶将有稳定的提高发展趋势，2023 年全球 ArF 光刻胶生产能力有希望做到 1870 吨，市场容量近 49 亿人民币。

从中国销售市场看，中国内地芯片加工基本建设将迈入快速发展期，光刻胶做为圆晶生产制造的重要原材料，市场的需求也将不断提升。依据关键芯片加工商官方网站公布的数据分析，未来五年在中国内地新创建最少 29 座芯片加工。

SEMI 预估，到 2020 年，中国内地芯片加工电脑装机生产能力做到每月 400 万片 8 寸等效电路圆晶，年年复合增长率为 12%，增速远远地高过别的地域，而 2015 年该生产能力仅为 230 万片。实际到 ArF 光刻胶运用的 12 英尺圆晶看来，依据 IDC 及芯观念研究所（Chipinsights）统计分析：截止 2019 年，在我国 12 英尺晶圆制造厂电脑装机生产能力约 90 万片 / 月，预估至 2024 年，在我国 12 英尺芯片加工在满产状况生产能力将做到 273 万片 / 月，对比 2019 年提高超出 200%。

▲中国光刻胶市场容量

高档光刻胶长期性为海外公司垄断性的现况，对在我国芯片制造导致“受制于人”风险性。因为高档光刻胶的保存期较短（一般 仅有 6-9 个月），一旦碰到貿易矛盾或洪涝灾害，在我国集成电路芯片产业链必然遭遇集成ic公司短时间全方位停工的比较严重不好局势。

另外光刻胶因独有的产业生态支撑点功效而变成 我国地域中间的博奕主力资金，因而高档光刻胶国内生产制造的刻不容缓。

受限于中国光刻胶技术性发展趋势水准，现阶段在我国高档光刻胶的自有率依然维持较适度性。虽然中国光刻胶销售市场维持了优良的提高发展趋势，但以 KrF、 ArF 光刻胶为意味着的半导体光刻胶行业中国市场占有率依然较小，高档光刻胶销售市场长期性为海外大佬所垄断性。

▲中国光刻胶全产业链

光刻胶上下游原料依靠進口。在光稳定剂、环氧树脂等光刻胶关键原料行业，日本一样具有较高的垄断性水平。博康是中国不可多得技术性合格并且能完成光刻胶上下游原材料国内生产制造的的公司。

光刻技术是研发高档光刻胶的关键机器设备，可是光刻技术机器设备市场价昂贵，超过中国大多数生产商能够承担的范畴，另外海外对出入口光刻技术的限定也进一步增加了产品研发难度系数。

光刻胶具备纯净度规定高、加工工艺繁杂等特点，必须具有多种多样技术性和秘方，包含光化学反应、有机化学等技术性，以达到多元化要求，而这种技术性的产生必须长期性的产品研发和工作经验累积。

在我国进到光刻胶行业的時间较短，与日本骨干企业存有很大差别，且很多发明专利把握在国外骨干企业手上，存有非常高的技术要求。

▲我国光刻胶公司国内生产制造的过程

▲我国颁布多种现行政策，全力帮扶光刻胶产业链

晶瑞股份：中国光刻技术行业的先行者。企业紧紧围绕泛半导体原材料和新能源材料2个方位，主打产品包含光刻胶及配套设施原材料、洁净高纯度实验试剂、锂电池材料和基本化工原料等，广泛运用于半导体、新能源技术、基本化工厂等领域，关键运用到中下游电子设备生产过程的清理、光刻技术、显影液、蚀刻加工、去膜、料浆制取等加工工艺阶段。

在其中光刻胶商品由企业的分公司苏州瑞红生产制造，苏州市瑞红做为中国光刻胶行业的先行者，经营规模生产制造光刻胶近 30 年，关键运用于半导体材料及平板显示器行业，产品技术实力和销售总额处在中国领先水平。

在中国首先完成现阶段集成电路芯片集成ic制造行业很多应用的关键光刻胶的批量生产，能够 完成 0.35μm 的屏幕分辨率，在业界创建了较高新技术信誉。

光刻胶产品种类遮盖普通高中低分辨率的 I 线、 G 线紫外线正性光刻胶、环化硫化橡胶型负性光刻胶、有机化学增长幅度型光刻胶、厚膜光刻胶等种类，运用领域包含 IC、 TFT-array、 LED、 Touch panel、优秀封裝等行业。

▲晶瑞股份发展史

容大感光：中国高档光感应有机化学材料产品研发、制造的开拓者。公司创立于 1996 年，是一家技术专业生产制造高档光感应有机化学材料的国家级别高新科技公司。

公司自开设至今，一直专注于 PCB 光感应印刷油墨、光刻胶及配套设施化工品、特殊印刷油墨等电子化学品的产品研发、生产制造和市场销售，并各自在深圳市、惠州市开设产品研发中心，自始至终不断达到 PCB、半导体材料及触摸显示屏表明行业发展产生的对产品质量持续提升的技术性要求。

公司的精准定位是专注于变成 高档光感应有机化学材料的产品研发、制造的开拓者，为我国的 PCB 工作的发展趋势作出积极主动的奉献。

依据领域有关统计分析，容大公司现阶段已变成 中国光感应有机化学材料生产制造及销售量领跑的公司，也是种类最齐备的公司。

▲容大感光发展史

▲关键产品作用及主要用途

飞凯材料：为新科技制造给予高品质材料。公司专注于为新科技制造给予高品质材料，并努力创造新材料的自主可控。

自 2002 年创立至今，飞凯材料自始至终致力于材料领域的自主创新与提升。从光纤通信行业紫外线干固材料的自主研发和生产制造逐渐，持续寻找领域间技术性协作，将关键经营范围逐渐扩展至集成电路芯片制造、屏幕上显示和医药中间体行业，为顾客给予订制化、多元化的材料解决方法。

公司所处领域关键为屏幕上显示材料、半导体材料材料及紫外线干固材料领域，主要经营的业务为新科技制造行业可用的屏幕上显示材料、半导体材料材料及紫外线干固材料等的科学研究、生产制造和市场销售。

公司屏幕上显示材料关键包含用以 TFT-LCD 液晶显示屏控制面板制造行业的正性光刻胶、 TN/STN 型混和lcd屏、 TFT 型混和lcd屏、lcd屏单个及lcd屏化工中间体、用以 OLED 显示屏制造行业的配套设施材料等新材料。

公司 2020 年控制面板用光刻胶完成收益RMB 3800 万余元。

▲飞凯材料关键产品

雅克科技：根据并购转型发展电子器件材料行业。公司关键专注于电子器件半导体材料材料，制氢复合型材料及其橡胶助剂材料产品研发和生产制造，根据多种多样方法参加到集成电路芯片（圆晶制造及封裝）、平板显示器（包括 LCD 及 OLED）等电子器件制造全产业链各个阶段。

在执行了一系列并购以后，公司进到电子器件材料业务流程，现阶段该业务流程版块已发展为公司新的主要经营的业务。公司电子器件材料业务流程实际包含半导体材料前驱体材料 / 旋涂绝缘层物质（SOD）、电子器件特种气体、半导体材料材料运输系统软件（LDS）、光刻胶和球型硅微粉等业务流程类型。

公司以技术革新为方式，再次增加对磷系阻燃剂、 LNG 隔热保温隔热板才及其电子器件材料层面的研发投入，开展新产品、新技术新工艺的科学研究开发设计，以给予高品质的产品为支撑点，持续发展世界各国销售市场，为顾客给予人性化的贴心服务。

公司紧随中下游顾客的要求及转变 ，持续提升调节产品构造，达到顾客不一样的市场的需求，进一步提高公司的综合性竞争能力，提高公司产品的品牌影响力。

▲近五年公司研发投入状况

南大光电：高档光刻胶产品研发和产业发展处在中国领先地位。公司创建的优秀光刻胶研发中心具有了研发作用单个、作用环氧树脂、引发剂等光刻胶材料的工作能力。早已开发设计的几款优秀光刻胶产品在手机客户端的第一轮评定中受到好评。

在其中公司已经自主研发和产业发展的 193nm 光刻胶新项目，已得到我国 02 重点“193nm 光刻胶及配套设施材料重要科研开发新项目”和“ArF 光刻胶开发设计和产业发展新项目”的宣布项目立项。

▲公司发展史

上海新阳：中国半导体材料材料领域引领者。公司所从业的关键业务流程分成两大类，一类为集成电路芯片制造用重要加工工艺材料及配套设施机器设备的产品研发、生产制造、市场销售和服务项目，并为顾客给予统一化解决方法，另一类为节能型、多功能性建筑涂料的产品研发、生产制造及相关服务业务流程，并为顾客给予技术专业的总体喷涂业务流程解决方法。

关键产品包含：圆晶制造及优秀封裝用电镀工艺及清洁液系列产品产品、半导体封装用电子器件有机化学材料、集成电路芯片制造用高档光刻胶产品系列产品、配套设施机器设备产品、氟碳涂料产品系列产品及其别的产品与服务项目。

在其中，集成电路芯片制造用高档光刻胶产品已经开发设计中，包含逻辑性和模拟芯片制造用的 ArF 干式光刻胶、 I 线光刻胶、KrF 光刻胶，数据存储器制造用的 KrF 厚膜光刻胶，底端抗反射膜（BARC）等配套设施材料。

▲2016-2020 公司营业收入逐渐提高

▲ 2016-2020 公司毛利率小幅度提高

华懋科技：2020 年公司开设了国有独资子公司华懋东阳市，并参加开设由凯石资产进行的合伙制企业东阳市凯阳，东阳市凯阳以增资扩股 可股权转让贷款 增加项目投资权的方式项目投资了徐州市博康，根据产业投资基金的方式拓宽全产业链条，逐渐合理布局半导体材料光刻胶行业，提高公司的竞争优势和不断营运能力。

在此次境外投资承诺的事宜所有进行后，公司将在半导体材料材料行业完成新的核心竞争力。

徐州市博康信息内容化工品比较有限公司于 2010 年创立，是集产品研发、生产制造、运营中高档光刻胶、光刻胶单个和光刻胶环氧树脂为主导的我国高新科技公司，公司致力于光刻胶原材料到制成品的自主研发及生产制造，具备独立详细的供应链管理，完成了从单个、光刻胶专用型环氧树脂、光酸及其最后光刻胶产品的国内生产制造的自主可控。

博康的光刻胶材料技术性做到全球优秀水准，并已供货国际性优秀大型厂。伴随着我国光刻胶材料国内生产制造的过程的加快，博康有希望不断盈利。

博康有机化学：光刻胶全产业链国内生产制造的先行者。博康专注于运用 IC 制造中的高档光刻胶产品及有关材料的自主研发生产制造和市场销售。公司关键精英团队由高端国外回国自主创业工作人员和世界各国权威专家构成。从 2017 年起，博康逐渐担负国际性 02 新项目中的《193 纳米技术光刻胶的开发设计与产业发展》 ，并于 2019 年宣布被我国明确为光刻胶单个的国家标准制订企业。

现阶段，博康早已取得成功开发设计 I 线光刻胶、 KrF 光刻胶、 ArF 光刻胶和离子束光刻胶四大系列产品光刻胶产品，另外结合了单个、环氧树脂等光刻胶上下游材料和光刻胶的产业链开发设计。博康在中国很多企业和 IC 加工厂评定或市场销售光刻胶产品，为中国集成ic工作和光刻技术材料的国内生产制造的而勤奋。

▲公司光刻胶产品

彤程新材：发展战略回收科华和北旭，加快光刻胶产业发展过程。彤程新材开设国有独资子公司上海市彤程电子器件做为电子器件材料产业链经营服务平台，“内部加外延性”一体两翼，取得成功发展战略回收中国半导体材料光刻胶骨干企业科华微电子及其中国表明控制面板光刻胶骨干企业北旭电子器件。

公司现阶段有着健全的环氧树脂生产制造与研发能力，公司在光刻胶环氧树脂行业，具备出色的产品开发设计工作能力与技术性累积，产生光刻胶产品的竞争优势。在光刻胶用脲醛树脂、聚酰亚胺膜和环氧树脂塑封膜料要脲醛树脂等层面早已有很多年的开发设计累积。公司平板显示器 TFT-array 正胶环氧树脂早已进行秘方、加工工艺开发设计。

优秀 i 线光刻胶环氧树脂，进行有关加工工艺开发设计及环氧树脂秘方开发设计，建立研发部门开展 KrF/ArF 光刻胶环氧树脂的开发设计。

▲彤程新材近 5 年营业收入和销售业绩

北京科华：高中档光刻胶的经销商与服务提供商。公司是一家中国与美国中外合资企业，创立于 2004 年，是一家产品遮盖 KrF（248nm）、 I-line、 G-line、紫外线宽谱的光刻胶及配套设施实验试剂的经销商与服务提供商，也是集优秀光刻胶产品研、产、销为一体的有着独立专利权的高新科技公司。

公司有着高中档光刻胶生产制造产业基地，各自有百载重吨环化硫化橡胶系紫外线负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套设施实验试剂生产流水线、 G/I 线正胶生产流水线（500 吨 / 年）和正胶配套设施实验试剂生产流水线（1000 吨 / 年）、百载重吨 248nm 光刻胶生产流水线。

▲北京科华关键商品和型号规格

北旭电子器件：中国管理科学领域引领者。公司创立于 1994 年，是中国管理科学领域领跑的高新科技企业孵化器。根据 20 很多年的持续发展，公司运用自身在有机材料和独特玻璃粉体领域的技术专业累积，为顾客给予一系列高质量商品和解决方法。

主要经营的业务为有机化学正型光阻和无机物独特粉体设备，商品包含航空公司、航空航天、电子器件、药业、船只，电器产品、车辆及日用具等领域。

可依据顾客性能测试方案，订制多种类型光刻胶商品，包含 LCD-array 正胶，有机化学绝缘层膜，I-line 光刻胶，Krf 及 ArF 光刻胶等。正型光刻胶运用于 IC、各种规格 TFT-LCD 及 AMOLED 领域，关键顾客为京东方。

恒坤股权：半导体器件总体解决方法服务提供商。公司创立于 1996 年，已发展趋势变成 一家专注于半导体材料先进材料产品研发、生产制造和市场销售的集成电路芯片公司，商品关键运用于集成电路芯片芯片制造的优秀制造，为顾客给予半导体器件总体解决方法。

公司已有着极高纯前驱体、高档光刻胶 2 个生产制造产业基地，并设立好几个技术性服务站。

公司与中国科学院微电子技术研究室产业发展服务平台南京市诚芯集成电路芯片技术性研究所开展协作签订，依靠中国科学院微电子所在全世界半导体产业的技术性优点，提升产品研发能量，推动高档光刻胶及有关原料的技术性扩展并完成产业发展。

▲公司发展史

博砚电子器件：生产制造 TFT-LCD 彩色滤色片用光刻胶的技术专业生产厂家。公司创立于 2014 年 7 月，是一家集产品研发，生产制造 TFT-LCD 彩色滤色片用光刻胶的技术专业生产厂家。

公司主营业务商品为灰黑色光刻胶（BM）、彩色光刻胶（RGB）、 PS、正性光刻胶。光刻胶普遍适用 TFT-LCD 液晶显示器、印刷电路和集成电路芯片及其印刷制版等全过程。

公司不断技术革新发展战略，凭着本身深厚的科学研究整体实力，早已取得成功开发设计出系列产品光刻胶商品。目前职工 100 人，研发人员占公司总人数 40％，在其中研究生及本科以上学历 23 人，日韩权威专家 4 人，中国台湾地区权威专家 2 人。公司引入产品研发阅历丰富的日、韩领域权威专家，提升当地生产制造的长期性技术性短板，变成 中国液晶显示屏制造企业的光刻胶达标经销商。

公司早已完成了光刻胶（BM）的开发设计和小试工作中，都早已完成了平稳生产制造，完成了一切正常百公斤级供应工作能力。

欣奕华：智能机器和先进材料领域技术领先公司。欣奕华（SINEVA）创立于 2013 年 5 月，是一家为智能制造系统、信息内容互动和人们方便快捷日常生活给予解决方法和专业服务的新科技公司。公司主要经营的业务涉及到智能机器和先进材料两大领域，包含智能机器、先进材料、人工智能技术和四轴飞行器四大工作。

关键聚焦点于半导体材料、表明及医疗行业，可给予高质量电子类材料（lcd屏单个、光刻胶、 OLED 原材料等）、药业原材料及最前沿原材料。

公司在纳米技术分散化、 UV 干固、秘方管控、小分子水设计方案与生成层面均累积了丰富多彩的开发设计工作经验，取得成功开发设计了高像素、OLED 用低 outgas、高透过率、高色域的彩色光刻胶和灰黑色光刻胶，依次担负了国家科技部、国家工信部组织实施的好几个我国重点项目建设。现阶段，公司在原材料领域已有着可使用专利 203 项，在其中半导体材料表明彩膜用光刻胶有关专利权 101 项。

智东西觉得，光刻胶归属于高技术要求原材料，生产工艺流程繁杂，纯净度规定高，必须长期性的技术性累积。现阶段，全世界半导体材料光刻胶销售市场基本上被日本和美国企业所垄断性。伴随着中国公司在半导体材料光刻胶核心技术领域获得提升，及其中国半导体生产能力迅速拓展和供应链管理自主可控要求产生的发展趋势机会，给了中国半导体材料光刻胶公司发展给予了充足的驱动力。