宁波南大光电自主研发 ArF 光刻胶产品

6 月 1 日信息，江苏省南大光电材料股权有限责任公司发布消息称，宁波市南大光电材料有限责任公司（下称“宁波市南大光电”）自主研发的 ArF 光刻胶产品继 2020 年 12 月在一家数据存储器制造企业的 50nm 闪存芯片服务平台上根据认证后，近日又在逻辑性芯片制造公司 55nm 技术性连接点的产品上获得了认证提升。

据了解此次认证系挑选顾客 55nm 技术性连接点逻辑性集成ic产品的加工工艺开展认证，宁波市南大光电产品研发的 ArF 光刻胶的检测合格率結果符合规定，说明其具有 55nm 服务平台后段金属材料走线层的加工工艺规定。

ArF 光刻胶材料是集成电路芯片生产制造行业的关键重要材料，能够用以 90nm-14nm 乃至 7nm 技术性连接点的集成电路芯片生产制造加工工艺。广泛运用于高端芯片制造（如逻辑性集成ic、数据存储器、AI 集成ic、5G 集成ic和云计算技术集成ic等）。ArF 光刻胶的行业前景好于预估。伴随着中国 IC 领域的迅速发展趋势，科技创新和国内生产制造的脚步的加速，及其优秀制造加工工艺的运用，将大大的带动光刻胶的使用量。