SK 海力士 M16 新厂竣工，将初次应用 EUV 光刻机生产

数据存储器生产商 SK 海力士 2 月 1 日公布，其企业坐落于首尔南边利川市的 M16 新厂早已完工，SK 海力士将初次应用极紫外线辐射源（EUV）光刻技术在生产制造数据存储器。

SK 海力士历经2年的時间，花销了 3.5 万亿韩元（折合 31 亿美金）完工了这座集成ic加工厂，加工厂长 336 米，宽 163 米，高 105 米，等同于一座 37 层公寓楼的高宽比，是 SK 海力士现阶段较大 的集成ic加工厂。

SK 集团公司老总崔泰源在颁奖盛典上称，修建新加工厂的决策在两年前是十分胆大的，由于那时候全部半导体材料数据存储器销售市场正处在不景气，现如今来看这一决策十分聪明。

SK 海力士称已在新厂区 M16 引入了 EUV 光刻技术，进而提升集成ic电源电路的细致水平。

现阶段 SK 海力士方案从2020年 6 月逐渐应用 EUV 光刻技术批量生产第四代 10nm（1α）DRAM 集成ic。

据 SK 海力士 CEO 李锡熙详细介绍，M16 是较为优秀的芯片制造加工厂，集中化了合乎 ESG（自然环境、社会发展和整治）核心理念的优秀设备，比如专业用以 EUV 机器设备的生产车间和全新的环境污染节能减排设备。

他还称，M16 的完工也意味着着其企业于 2015 年公布的 “将来企业愿景”的初期完成。那时候，SK 海力士公布将从 2014 年起在 10 年之内修建三座新加工厂，M14 和 M15 各自于 2015 年和 2018 年完工，M16 是其 “将来企业愿景”中最终一间加工厂。

总结：SK 海力士宣布应用 EUV 技术性，三大储存生产商只剩美光未应用

此次 SK 海力士的加工厂完工将恰好追上网络服务器扩大，全世界集成ic紧缺这一连接点。该企业预估2020年 DRAM 要求将提高约 17% 至 20%，除此之外2020年网络服务器商品的要求也很有可能提高 30% 之上。SK 海力士的加工厂完工赶上了最好的连接点上，这离不了其企业对总体领域的精确分辨。

另外在 SK 海力士应用 EUV 技术性后，三大集成ic储存生产商就只剩余美光还未引进 EUV 光刻技术。短时间美光选用 1α加工工艺的 DRAM 成本费很有可能会小于此外俩家，可是长期性看来很有可能将缺乏三星、SK 海力士规模性选用 EUV 技术性生产制造 DRAM 的工作经验，这很有可能会使其在市场需求中处于下风。